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UP-206金屬圓柱腔式MPCVD設(shè)備
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UP-206系列金屬圓柱腔式MPCVD設(shè)備設(shè)計先進(jìn)，性能可靠。硬件配置采用業(yè)內(nèi)知名高可靠性品牌，保障設(shè)備長時間穩(wěn)定運(yùn)行。軟件系統(tǒng)采用高度集成的PLC控制，所有操作均可在觸摸屏上一鍵完成。工藝配方功能強(qiáng)大，可支持多達(dá)10套不同工藝自動生長。內(nèi)置恒溫功能，開啟后設(shè)備全自動監(jiān)控調(diào)節(jié)，省時省力。非常適于沉積單晶金剛石片，人工鉆石毛胚等，已實現(xiàn)給各企業(yè)及研究院所大批量出貨。
產(chǎn)品描述
技術(shù)指標(biāo)與特性
| 1.微波系統(tǒng)(采用進(jìn)口微波源) | |
| 微波頻率 | 2450±25MHz |
| 輸出功率 | 0.6kw~6kw 連續(xù)可調(diào) |
| 微波泄漏 | 離設(shè)備 5cm 處，微波泄漏≤ 2 mw/cm2 |
| 2.真空系統(tǒng) | |
| 工作氣壓范圍 | 10~250Torr |
| 自動穩(wěn)壓范圍 | 40~250Torr |
| 真空泵 | 采用 4.4L/s 旋片式真空泵 |
| 系統(tǒng)漏率 | <1.0×10-9 Pa*m3 /秒 (通過氦質(zhì)譜檢漏儀檢測) |
| 腔體保壓能力 | 每 24 小時壓升小于 0.2 Torr |
| 本底極限真空 | 0.1Pa(7.5×10-4 Torr) |
| 3.真空反應(yīng)腔及基片臺 | |
| 反應(yīng)腔材料及結(jié)構(gòu) | 雙層水冷不銹鋼反應(yīng)腔 |
| 電動升降式水冷基片臺，直徑 100mm | |
| 鉬基片臺直徑≥50mm | |
| 4.氣路 | |
| 系統(tǒng)自帶四路 MFC，可擴(kuò)展至六路 | |
| 選用日本富士金進(jìn)口流量計及流量控制閥 | |
| 5.測溫系統(tǒng) | |
| 選用德國品牌紅外測溫儀，范圍：300~1300 攝氏度 | |
| 6.軟件 | |
| 配置 PLC 控制的 15“觸摸顯示屏，用戶操作界面友好，所有操作均可在觸摸屏上完成 | |
| 自帶缺水，缺氣，電源缺相，火球跳變，過溫過載，打火等自動保護(hù) | |
| 生產(chǎn)流程通過工藝配方自動控制,可設(shè)置多達(dá)十套工藝配方 | |
| 系統(tǒng)自帶全自動抽氣，點火，升溫，降溫等預(yù)設(shè)流程，用戶操作簡便 | |
| 全自動溫度控制，氣壓控制，極大減輕系統(tǒng)操作員的工作量 | |
關(guān)鍵詞:
UP-206
MPCVD
MPCVD設(shè)備
合成鉆石
培育鉆石
金剛石設(shè)備
金剛石涂層
微波等離子體
人工合成鉆石
金剛石薄膜
金剛石沉積設(shè)備
微波等離子體
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